Технологические тренировки интегральных схем
Любая представленная выборка при выпуске интегральных схем (ИС) состоит из трех различных по надежности групп: группа, характеризующаяся интенсивностью отказов, соответствующей требованиям технических условий (ТУ) на интегральные схемы, группа более надежная и группа интегральных схем, менее надежная по сравнению с требованиями ТУ. Целью отбраковочных технологических испытаний интегральных схем...
Воздействие электростатических разрядов на интегральные схемы
Известно, какой вред полупроводниковым изделиям наносит электростатический заряд. Аккумуляция заряда на пластинах и фотошаблонах приводит к потерям в выходе годных интегральных схем, так как заряженная пластина или фотошаблон, подобно пылемагниту, способны собирать частицы пыли даже в самой чистой среде. Анализ показывает, что до 65% отказов КМОП интегральных схем на
некоторых предприятиях-из...
Конструктивно-технологические особенности проектирования радиационно-стойких интегральных схем операционных усилителей
На этапе проектирования проблему повышения радиационной стойкости аппаратуры наиболее эффективно можно решить соответствующим выбором способа коррекции переходных и частотных характеристик усилителя. Наилучшие результаты получаются при включении быстродействующего канала (рис. 1) параллельно наиболее инерционному каскаду интегрального операционного усилителя, а наихудшие результаты — при коррек...
Датчик влажности поверхностно-конденсационного типа
В работе предложена конструкция микроэлектронного датчика влажности поверхностно-конденсационного типа и методика измерения паров воды внутри корпусов интегральных схем.
Возможность отбраковки полупроводниковых приборов по уровню низкочастотного шума
Низкочастотные шумы полупроводниковых изделий, как наиболее специфические для этих изделий, могут служить для прогнозирования их качества и надежности.
Контроль содержания паров воды внутри корпусов интегральных микросхем
Развитие интегральных схем (ИС) связано с увеличением степени интеграции, то есть числа элементов на кристалле и функциональной сложности, что обеспечивается как уменьшением размеров элементов, в том числе ширины тонкопленочных проводников и зазоров между ними, так и увеличением площади кристалла. При этом площадь, занимаемая межсоединениями, увеличилась с 20% для ИС первой и второй степени инт...